法律依据：《日本特許法》

保护期限：自申请日起20年。

保护客体：产品、方法、工艺、系统等新的技术发明。

主要特点

审查严格：日本特许厅的审查以细致和严格著称，对创造性和实用性的要求很高。

早期公开：自申请日（或优先权日）起18个月后，申请内容将被公开。

实审请求制：申请人必须在申请日（或优先权日）起3年内提出实质审查请求，否则申请将被视为撤回。

单一性要求：一件申请应当仅包含一项发明。如果不符合单一性，审查员会发出“分案指令”。